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镍靶可通过真空溅射形成膜层 ,用于磁存储介质、半导体、LED等行业器件镀膜。

元素符号:Ni
纯度:4N+
形状:平面靶;旋转靶
外观:银色金属
典范密度:8.94g/cm?
通例尺寸:平面靶: 2400x500x30mm
旋转靶: L3000mm
其它尺寸可定制


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